[发明专利]一种MEMS器件的制作方法有效
| 申请号： | 201611140082.5 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108609577B | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 施林波;陈福成 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 11336 北京市磐华律师事务所 | 代理人： | 董巍;高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种MEMS器件的制作方法，所述方法包括:提供MEMS晶圆，所述MEMS晶圆的正面形成有图案化的过滤层；在所述MEMS晶圆中形成开口，所述开口贯穿所述MEMS晶圆的背面；在所述图案化的过滤层上形成胶带；自所述MEMS晶圆的背面减薄所述MEMS晶圆，使所述MEMS晶圆减薄到目标厚度；剥离所述胶带。根据本发明提供的MEMS器件的制作方法，首先在MEMS晶圆中形成贯穿所述MEMS晶圆的背面的开口，然后采用胶带对所述MEMS晶圆正面进行保持，自所述MEMS晶圆的背面减薄所述MEMS晶圆，使所述MEMS晶圆减薄到目标厚度，从而避免了需要临时键合的工艺，从而实现低成本、高良率制作超薄MEMS器件。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆 胶带 背面减薄 开口 过滤层 图案化 制作 减薄 晶圆正面 临时键合 低成本 贯穿 良率 背面 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种MEMS器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：/n提供MEMS晶圆，所述MEMS晶圆的正面形成有图案化的过滤层；/n在所述MEMS晶圆中形成开口，所述开口贯穿所述MEMS晶圆的背面；/n在所述MEMS晶圆中形成所述开口之后，在所述图案化的过滤层上形成胶带；/n在所述图案化的过滤层上形成所述胶带之后，自所述MEMS晶圆的背面减薄所述MEMS晶圆，使所述MEMS晶圆减薄到目标厚度，所述背面减薄的方法包括对所述MEMS晶圆的中心区域进行研磨，以使所述MEMS晶圆的中心区域减薄，并在所述MEMS晶圆的边缘区域形成突出的支撑环；/n在使所述MEMS晶圆减薄到目标厚度之后，剥离所述胶带。/n
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