[发明专利]一种超薄钯箔片和钯粉的制备方法有效
| 申请号： | 201611140629.1 | 申请日： | 2016-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108608004B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 杨伦权 | 申请（专利权）人： | 昆明仁旺科技有限公司 |
| 主分类号： | B22F9/24 | 分类号： | B22F9/24;B22F1/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 杭州研基专利代理事务所(普通合伙) 33389 | 代理人： | 谢东 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市五华区学*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种超薄钯箔片的制备方法，包括步骤如下，1)配置碱性钯离子前驱液，2)加入羟基化合物，制备混合液；3)放置在紫外线下光照，4)静置5)搅拌处理，即可得钯箔片。本发明比传统的钯箔片制备工艺和其它钯箔制备方法工艺简单、无需大量人力和复杂的设备、成本低、即可得到超薄的钯箔片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 钯箔片 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种超薄钯箔片的制备方法，其特征在于，包括步骤如下，1)配置碱性钯离子前驱液，取含有钯离子的前驱液，并将所述前驱液的pH值调节为7～14；2)加入羟基化合物，制备混合液；向所述前驱液中加入羟基化合物，得到混合液；3)放置在紫外线下光照，利用波长为180nm～375nm的紫外光照射所述混合液0.05～48小时，获得含钯纳米粒子的胶体溶液；4)静置将所述胶体溶液放置在室温室压无紫外光照条件下静置0.001～48小时；5)搅拌处理利用磁力搅拌器搅拌，搅拌时间为1小时‑5小时，即可得钯箔片。
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