[发明专利]产生用于光刻过程的多个光掩模的方法

摘要

一种产生用于光刻过程的多个光掩模的方法包含产生电路图形。电路图形包括多个顶点和多个边缘。多个顶点中的每一者表示多个导线中的一者。多个边缘表示小于可接受最小距离的导线之间的间距。通过将第三顶点合并到选自多个顶点的第一集合的第四顶点中来简化Kn+1图形，所述Kn+1图形包括选自由选自多个边缘的边缘的第一集合串联连接的多个顶点的顶点的第一集合，且具有选自顶点的第一集合的第一顶点和第二顶点之间的至少一个非串联边缘连接。执行n重图案冲突检查，且基于结果产生光掩模。

主权项

一种产生用于光刻过程的多个光掩模的方法，其包括：产生表示具有多个导线的电路布局的电路图形，其中所述图形包括多个顶点和多个边缘，其中所述多个顶点中的每一者表示所述多个导线中的对应一者，且其中所述多个边缘中的每一者表示小于可接受最小距离的所述导线之间的间距；识别所述电路图形内的至少一个Kn+1图形，其中Kn+1图形包括选自由选自所述多个边缘的边缘的第一集合串联连接的所述多个顶点的顶点的第一集合，且具有选自顶点的所述第一集合的第一顶点和第二顶点之间的至少一个非串联边缘连接，其中顶点的所述第一集合包括n+1个顶点，其中n为大于2的任何整数；通过将选自所述多个顶点的所述第一集合的第三顶点合并到第四顶点中，简化所述至少一个Kn+1图形，其中所述第三顶点具有选自所述多个边缘的边缘的第二集合，且所述第四顶点具有选自所述多个边缘的边缘的第三集合，且其中通过从所述电路图形移除所述第三顶点且将来自边缘的所述第二集合的边缘添加到边缘的所述第三集合，将所述第三顶点合并到所述第四顶点中以产生简化电路图形，其中仅当边缘的所述第三集合不包含对应边缘时，才将来自边缘的所述第二集合的所述边缘添加到边缘的所述第三集合；对所述简化电路图形执行n重图案冲突检查；以及基于所述n重图案冲突检查的结果产生所述多个光掩模。