[发明专利]一种PECVD镀膜装置

摘要

本发明公开了一种PECVD镀膜装置，包括双层石英管，双层石英管端部设有法兰，双层石英管内腔设有镀膜腔，镀膜腔外壁上固定有感应线圈，法兰上设有第一工艺进气口和第二工艺进气口，且第一工艺进气口、第二工艺进气口连接设置在镀膜腔内部的气体稳流装置，双层石英管一侧和底部均开有通孔，且侧壁的通孔内穿设抽真空管，且抽真空管连通镀膜腔，底部的通孔内穿设有尾气排放管，且尾气排放管连通镀膜腔，本发明结构原理简单，能够提高硅片镀膜的均匀性，且工作效率高。

主权项

1.一种PECVD镀膜装置, 包括双层石英管（1），其特征在于：所述双层石英管（1）端部设有法兰（2），所述双层石英管（1）内腔设有镀膜腔（3），所述镀膜腔（3）外壁上固定有感应线圈（4），所述法兰（2）上设有第一工艺进气口（5）和第二工艺进气口（6），且所述第一工艺进气口（5）、所述第二工艺进气口（6）连接设置在镀膜腔（3）内部的气体稳流装置（7），所述双层石英管（1）一侧和底部均开有通孔（8），且侧壁的通孔内穿设抽真空管（9），且所述抽真空管（9）连通镀膜腔（3），所述抽真空管（9）连接抽真空设备（10），底部的通孔内穿设有尾气排放管（11），且所述尾气排放管（11）连通镀膜腔（3），所述尾气排放管（11）连接尾气处理装置（12）；所述气体稳流装置包括稳流体（13）、进气口（14）、蜂窝片（15）、气体调整器（16）、出气口（17）和过滤片（18），所述稳流体（13）的一端设有进气口（14），所述稳流体（13）的另一端设有出气口（17），所述稳流体（13）的内部设有蜂窝片（15）、气体调整器（16），所述蜂窝片（15）位于进气口（14）的一端，所述蜂窝片（15）连接气体调整器（16），所述气体调整器（16）的出口通过过滤片（18）连接出气口（17），所述气体调整器（16）内包括多个气流调节格栅（19），且所述气流调节格栅（19）呈锥形。