[发明专利]一种基带处理方法及装置有效

专利信息
申请号: 201611147154.9 申请日: 2016-12-13
公开(公告)号: CN106603458B 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 华虎军;陈印锋 申请(专利权)人: 武汉虹信通信技术有限责任公司
主分类号: H04L27/26 分类号: H04L27/26;H04L1/00;H04L1/18
代理公司: 11304 北京信远达知识产权代理有限公司 代理人: 魏晓波
地址: 430205 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提出一种基带处理方法及装置。一种基带处理方法,包括:接收对各个小区进行下行基带处理所需的参数信息;其中,所述参数信息包括对各个小区进行下行基带处理所需的公共参数信息,以及对所述各个小区的各物理信道进行下行基带处理所需的参数信息;然后根据所述对各个小区进行下行基带处理所需的参数信息,并行地对所述各个小区分别进行下行基带处理。本发明提出的下行基带处理方法,在处理过程中,针对各个小区,并行地进行下行基带处理,对各小区的下行基带处理独立进行,不存在串行处理过程,处理效率更高。
搜索关键词: 一种 基带 处理 方法 装置
【主权项】:
1.一种基带处理方法,其特征在于,应用于LTE下行物理层,所述方法包括:/n接收对各个小区进行下行基带处理所需的参数信息;其中,所述参数信息包括对各个小区进行下行基带处理所需的公共参数信息,以及对所述各个小区的各物理信道进行下行基带处理所需的参数信息;/n根据所述对各个小区进行下行基带处理所需的参数信息,由基带处理装置的多个下行基带处理功能模块并行地对所述各个小区分别进行下行基带处理;其中,所述多个下行基带处理功能模块的数量不少于所述各个小区的数量。/n
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