[发明专利]一种二相流雾化清洗装置

摘要

本发明公开了一种二相流雾化清洗装置，包括可移动固定支架及与其相连的二相流雾化喷嘴主体，主体内设有清洗介质混合腔，用于使通入的气体、液体清洗介质充分混合，并形成尺寸均匀的雾化颗粒，主体下端设有雾化颗粒出口，其通过拉瓦尔喷管连接至清洗介质混合腔，可通过拉瓦尔喷管缩小雾化颗粒的尺寸，增加雾化颗粒的运动速度和其具有的动能，并调整雾化颗粒从雾化颗粒出口喷出以后的运动轨迹，以使雾化颗粒具有垂直于晶圆表面的运动方向，防止雾化颗粒产生在水平方向上的动能分量，以避免对晶圆表面图形结构造成损伤。

主权项

一种二相流雾化清洗装置，其特征在于，包括：固定支架和二相流雾化喷嘴主体；所述固定支架一端与二相流雾化清洗喷嘴主体固定连接，另一端受驱动带动二相流雾化清洗喷嘴主体在晶圆表面上方运动，实现对整个晶圆范围内的均匀清洗；所述二相流雾化清洗喷嘴主体悬设于晶圆上方，其连接第一、第二清洗介质管路，所述第一清洗介质管路用于向二相流雾化清洗喷嘴主体内通入气体清洗介质，所述第二清洗介质管路用于向二相流雾化清洗喷嘴主体内通入液体清洗介质；所述二相流雾化清洗喷嘴主体内设有清洗介质混合腔，所述清洗介质混合腔连接第一、第二清洗介质管路，用于使通入的气体、液体清洗介质充分混合，并形成尺寸均匀的雾化颗粒；所述二相流雾化清洗喷嘴主体下端设有雾化颗粒出口，所述雾化颗粒出口通过拉瓦尔喷管连接至清洗介质混合腔；其中，通过拉瓦尔喷管缩小雾化颗粒的尺寸，增加雾化颗粒的运动速度和其具有的动能，并调整雾化颗粒从雾化颗粒出口喷出以后的运动轨迹，以使雾化颗粒具有垂直于晶圆表面的运动方向，防止雾化颗粒产生在水平方向上的动能分量，以避免对晶圆表面图形结构造成损伤。