[发明专利]一种灌晶装置在审
申请号: | 201611150091.2 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN106502007A | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 黄海忠;贺术春 | 申请(专利权)人: | 郴州市晶讯光电有限公司 |
主分类号: | G02F1/1341 | 分类号: | G02F1/1341 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所11569 | 代理人: | 王加贵 |
地址: | 423000 湖南省郴州市永兴县*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种灌晶装置,包括灌晶盘、灌晶条和压板,所述灌晶条包括基体与设置于所述基体上的凸台,所述凸台的一侧开有液晶槽,所述凸台的另一侧与所述基体相连,所述基体上设有凹槽,所述凹槽环绕所述凸台,所述凹槽具有能够使液晶流动的缓坡道和能够容纳液晶的收集槽,所述缓坡道与所述收集槽相连通,所述压板将所述灌晶条固定于所述灌晶盘上。由于设置了环绕凸台的凹槽,加注到液晶槽内的液晶溢出时,流到凹槽中,凹槽具有能够使液晶流动的缓坡道和能够容纳液晶的收集槽,缓坡道与收集槽相连通,多加注的液晶最终汇集到收集槽中,得以回收利用,降低了液晶灌注的单耗,节约了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 | ||
【主权项】:
一种灌晶装置,包括灌晶盘、灌晶条和压板,其特征在于:所述灌晶条包括基体与设置于所述基体上的凸台,所述凸台的一侧开有液晶槽,所述凸台的另一侧与所述基体相连,所述基体上设有凹槽,所述凹槽环绕所述凸台,所述凹槽具有能够使液晶流动的缓坡道和能够容纳液晶的收集槽,所述缓坡道与所述收集槽相连通,所述压板将所述灌晶条固定于所述灌晶盘上。
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