[发明专利]一种内窥镜视场光阑的装置有效
申请号: | 201611151257.2 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN106510602B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 田宝龙;毛荣壮;李明治;秦义宏 | 申请(专利权)人: | 青岛奥美克医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61B1/00 | 分类号: | A61B1/00;A61B1/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266100 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种新型内窥镜视场光阑的装置,属于微创医疗的技术领域,该视场光阑采用掩模的方法在掩膜基片上制备视场光阑图形,通过保护片与掩膜基片贴合,将视场光阑图形保护在掩膜基片与保护片之间,避免视场光阑在生产装配和使用过程中产生损坏或沾染异物,同时还具有视场光阑图形可很方便加工成圆形、椭圆形、长方形或其他不规则形状的优点,特别适宜应用于内窥镜光学系统及其他对视场边界要求高的光学系统中,做视场光阑用。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 内窥镜 视场 光阑 装置 | ||
【主权项】:
1.一种内窥镜视场光阑的装置,含内窥镜主体(1),视场光阑组件(2),目镜组件(3),内窥镜主体(1)和目镜组件(3)具有与传统内窥镜相同的结构,内窥镜主体(1),视场光阑组件(2),目镜组件(3)以共轴的方式依次排列,其特征在于,视场光阑组件(2)含掩膜基片(21)和保护片(22),掩膜基片(21)和保护片(22)都采用透明的光学材料制成,掩膜基片(21)的出射面(211)上采用掩膜的方法制有视场光阑图形(212),掩膜基片(21)的出射面(211)与保护片(22)的入射面(221)贴合在一起,视场光阑图形(212)保护在掩膜基片(21)和保护片(22)之间。
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