[发明专利]掺四价铬氧化镓晶体及制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201611153445.9 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN106521625B 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 贾志泰;穆文祥;陶绪堂;尹延如;胡强强 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C30B15/34;C30B28/02
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 杨磊
地址: 250199 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及掺四价铬氧化镓晶体及制备方法与应用,该晶体分子式为β‑(Ga1‑x‑yCrxAy)2O3,0.0012O3晶体中掺入Cr或者Cr与二价金属阳离子双掺,获得四价Cr掺杂的β‑Ga2O3晶体,该晶体是一种性能优良的可饱和吸收材料。该晶体物理化学性质稳定,热导率高,也可以作为激光晶体使用。
搜索关键词: 掺四价铬 氧化 晶体 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种掺四价铬氧化镓晶体,其特征在于,该晶体分子式为β‑(Ga1‑x‑yCrxAy)2O3,0.001
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