[发明专利]应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头在审
申请号: | 201611154916.8 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN107313026A | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 林伯融;陈哲霖;蔡长达;钟步青 | 申请(专利权)人: | 汉民科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019 | 代理人: | 寿宁,张华辉 |
地址: | 中国台湾台北巿大*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明相关于一种应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,该气体分流喷头包含至少一个单层结构的气体分流层,用以对各种气体进行分流。此气体分流层包含圆盘状主体、多条第一气体通道、多条第二气体通道、以及多条第三气体通道,其中,第一气体通道、第二气体通道、以及第三气体通道以放射状排列于圆盘状主体中的同一水平面,用以供不同的气体通过,而将不同的气体经由不同的气体通道在同一平面横向注入化学气相沉积装置。借此,本发明的气体分流喷头可以单层结构进行气体分流。 | ||
搜索关键词: | 应用于 化学 沉积 装置 气体 分流 喷头 | ||
【主权项】:
一种应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,包含:气体分流层,用以分流不同的气体而将其由同一水平面侧向喷出,该气体分流层包含:圆盘状主体,其中心位置具有圆形开孔,用以容置布气装置以及供其气体通行;多条第一气体通道,由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边延伸而呈放射状排列,用以将第一气体由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边输送,而横向喷出;多条第二气体通道,由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边延伸而呈放射状排列,用以将第二气体由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边输送,而横向喷出;以及多条第三气体通道,由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边延伸而呈放射状排列,用以将第三气体由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边输送,而横向喷出;其中,所述第一气体通道、所述第二气体通道、以及所述第三气体通道皆设置于该圆盘状主体内的同一水平面上且成对称分布,借此,不同的气体能够经由不同气体通道与同一水平面上横向喷出。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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