[发明专利]稀疏波束图综合设计方法有效
申请号: | 201611155119.1 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN106682293B | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 梁军利;张旋 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 杨璐 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明公开的稀疏波束图综合设计方法,具体为:步骤1、在实际阵列信号系统中,依据设计要求,建立以p范数(0
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搜索关键词: | 稀疏 波束 综合 设计 方法 | ||
【主权项】:
1.稀疏波束图综合设计方法,其特征在于,具体按照以下方法实施:步骤1、在实际阵列信号系统中,依据设计要求,建立以p范数0<p<2为稀疏约束的权值优化目标模型,并依据要求设置主瓣宽度,纹波宽度以及旁瓣限制的约束条件;步骤2、待步骤1完成后,针对得到的非凸优化模型,采用交替方法乘子法来迭代求出稀疏权值系数w;步骤3、利用步骤2得到的稀疏权值系数w并结合计算机内的仿真软件,按照设计要求作出波束图;所述步骤1具体按照以下方法实施:对于一维阵列,有N个传感器,则在角度θ方向上的波束模式具体如下:p(θ)=wHa(θ) (1);在式(1)中:w=[w1 w2,…wN]T为权值向量,a(θ)=[a1(θ),…,aN(θ)]T为导向矢量;设定将主瓣区域均匀划分为M个角度,其宽度为:{θ1,…,θm},m=1,…,M,则主瓣纹波宽度约束具体为:1‑ε≤|wHa(θm)|2≤1+ε (2);在式(2)中:ε为纹波系数;同理,设定将旁瓣区域被均匀划分为S个角度,其宽度为s=1,…,S,则旁瓣上界约束具体如下:式(3)中,η为上界系数;建立如下稀疏约束的权重优化目标模型,具体如下:
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