[发明专利]辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法在审
| 申请号： | 201611161131.3 | 申请日： | 2016-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN108212912A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;陈胜洁 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B3/12;F26B3/00;F26B5/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 高静;吴敏 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，包括：提供辉光放电质谱设备用陶瓷片；对陶瓷片进行第一清洗工艺；第一清洗工艺后对陶瓷片进行第二清洗工艺，第二清洗工艺包括超声波清洗工艺；第二清洗工艺后在预设温度下对陶瓷片进行干燥工艺。第一清洗工艺主要用于去除陶瓷片表面的金属杂质，由于陶瓷片本身具有较多微孔，微孔内容易吸附杂质(例如第一清洗工艺后的金属溶解物)，因此通过超声波清洗工艺，可以有效去除第一清洗工艺后微孔内的残留杂质，且在预设温度下进行干燥工艺时，还可以使微孔内剩余低熔点的残留杂质蒸发，从而提高对陶瓷片的杂质去除效果，减少陶瓷片杂质残余，进而提高辉光放电质谱的检测准确性和检测效率。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷片 清洗工艺 辉光放电质谱 微孔 超声波清洗 干燥工艺 去除 预设 清洗 残留 陶瓷片表面 金属溶解 金属杂质 杂质去除 低熔点 多微孔 检测 吸附 蒸发 | ||
【主权项】：
1.一种辉光放电质谱设备用陶瓷片的清洗方法，其特征在于，包括：提供辉光放电质谱设备用陶瓷片；对所述陶瓷片进行第一清洗工艺；第一清洗工艺后，对所述陶瓷片进行第二清洗工艺，所述第二清洗工艺包括超声波清洗工艺；第二清洗工艺后，在预设温度下对所述陶瓷片进行干燥工艺。
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