[发明专利]一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜有效
| 申请号： | 201611168145.8 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN106772710B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 邓文渊;金春水;靳京城;李春 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种减反射膜的制备方法，包括以下步骤：步骤S100，在基底上，采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜；步骤S200，在最外层采用真空热沉积方法，以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜；其中，所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角，所述预设的入射沉积角度α的取值范围为50°‑85°。利用该制备方法制得的减反射膜应用在扩束棱镜中，可有效提高大入射角时的透射率，降低残余反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 减反射膜 制备 方法 角度 入射 | ||
【主权项】：
1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤S100，在基底上，采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜；步骤S200，在最外层采用真空热沉积方法，以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜；其中，所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角，在所述步骤S200获得的膜系中，所述入射沉积角度α为78°，所述倾斜沉积低折射率单层膜的膜层厚度200nm以内，所述倾斜沉积的低折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.2111，消光系数为0.0005；在沉积过程中，使光学基底以一定速率进行自转。
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