[发明专利]一种连续电沉积制备锂带的方法有效
| 申请号： | 201611176573.5 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN106702441B | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 曹乃珍;徐川;刘强;高洁;邹崴;何霞 | 申请（专利权）人： | 天齐锂业股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/42 | 分类号： | C25D3/42;C25D7/06;C25D5/48;C25D5/34;C25D5/44 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司 51226 | 代理人： | 武森涛 |
| 地址： | 629200 四川省遂宁*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及制备金属锂带的方法，具体涉及一种连续电沉积制备锂带的方法。本发明解决的技术问题是提供一种连续电沉积制备锂带的方法。该方法包括依次进行的如下步骤：a、前处理：对金属基带进行活化处理；b、电沉积锂：采用恒流电沉积锂，先控制电流密度为5～50mA/cm2，沉积0.5～10s；再调整电流密度为0.02～1mA/cm2，沉积时间为1～10h；c、后处理：将电沉积后的金属带进行钝化，得到金属锂带。该金属锂带各处厚度均匀致密，通过调节电流密度与浸入镀液时间来调控锂镀层的厚度，易于制得各类厚度的锂带，尤其可制得厚度低于30μm的超薄锂带。本发明方法简单，成本低廉，可使金属锂带的生产大规模化。 | ||
| 搜索关键词： | 金属锂带 锂带 制备 连续电沉积 电沉积 沉积 致密 后处理 浸入 超薄锂带 厚度均匀 活化处理 金属基带 金属带 前处理 再调整 镀层 镀液 钝化 恒流 调控 生产 | ||
【主权项】：
1.一种连续电沉积制备锂带的方法，其特征在于，包括依次进行的如下步骤：a、前处理：对金属基带进行清洗、活化处理；b、电沉积锂：采用恒流电沉积锂，先控制电流密度为5～50mA/cm2，沉积0.5～10s；再调整电流密度为0.02～1mA/cm2，沉积时间为1～10h；c、后处理：将电沉积后的金属带进行钝化，得到金属锂带，所述金属锂带的厚度低于30μm。
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