[发明专利]曝光设备及曝光方法有效
| 申请号： | 201611179593.8 | 申请日： | 2016-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN106527055B | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 朱美娜 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光设备及曝光方法。本发明的曝光设备包括一掩膜板、设于所述掩膜板左侧下方的第一平台、设于所述掩膜板右侧下方的第二平台、设于所述掩膜板右侧上方的第一光源、及设于所述掩膜板左侧上方的第二光源；所述第一平台、第二平台均用于承载基板；所述第一光源射出的光线穿过所述掩膜板射到所述第一平台；所述第二光源射出的光线穿过所述掩膜板射到所述第二平台；由于该曝光设备具有两个光源，使用该曝光设备进行曝光时，通过合理设置光路，便能够达到一个曝光腔内用一张掩膜板同时曝光两块基板的目的，从而能够提高产能，节省掩膜板。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，其特征在于，包括一掩膜板(110)、设于所述掩膜板(110)左侧下方的第一平台(121)、设于所述掩膜板(110)右侧下方的第二平台(122)、设于所述掩膜板(110)右侧上方的第一光源(131)、及设于所述掩膜板(110)左侧上方的第二光源(132)；所述第一平台(121)、第二平台(122)均用于承载基板(200)；所述第一光源(131)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到所述第一平台(121)；所述第二光源(132)射出的光线穿过所述掩膜板(110)射到所述第二平台(122)。
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