[发明专利]基板清洗设备在审

专利信息
申请号: 201611179595.7 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN106623189A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 陈建锋 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B1/02;B08B11/04;G02F1/13;H01L21/67
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板清洗设备,包括机架、位于所述机架上方的护罩、传送机构、及喷淋机构,所述传送机构包括并列设置的数个导辊,且所述数个导辊中至少有一个为海绵刷导辊,且每一海绵刷导辊的上方相对设有一个第一压制辊,相比于对现有技术,通过在传送机构中增设海绵刷导辊,能够有效提高清洗效果,从而当该基板清洗设备用于基板显影后的终极清洗工序时,能够有效避免光刻胶残留及滚痕的形成,提高产品的清洗良率。
搜索关键词: 清洗 设备
【主权项】:
一种基板清洗设备,其特征在于,包括机架(30)、位于所述机架(30)上方的护罩(40)、传送机构(10)、及喷淋机构(20);所述护罩(40)用于提供基板清洗空间,所述传送机构(10)用于承载并运送基板(50),所述喷淋机构(20)用于向基板(50)喷淋清洗液;所述传送机构(10)包括并列设置的数个导辊(105),且所述数个导辊(105)中至少有一个为海绵刷导辊(101),其他的为传送导辊(102);每一海绵刷导辊(101)的上方相对设有一个第一压制辊(103)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611179595.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top