[发明专利]评价方法、曝光方法以及物品的制造方法有效
| 申请号： | 201611180236.3 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN106919004B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 大久保徹 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙蕾<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种评价方法包括：转印工序，将掩模多个图案要素通过曝光装置的投影光学系统转印到基板；第1工序，根据转印工序中转印结果，求出与基于投影光学系统的多个图案要素各自的投影位置有关的第1特性值，将多个图案要素的第1特性值平均值作为表示投影光学系统像差的第1信息求出；检测工序，检测通过投影光学系统投影的多个图案要素像；第2工序，根据检测工序中的检测结果，求出关于基于投影光学系统的多个图案要素各自的投影位置的第2特性值，将多个图案要素第2特性值的平均值及多个图案要素各个的第2特性值与该第2特性值的平均值之差作为表示投影光学系统像差的第2信息求出；评价工序，根据第1信息和第2信息评价投影光学系统的像差。 | ||
| 搜索关键词： | 评价 方法 曝光 以及 物品 制造 | ||
【主权项】：
1.一种评价方法，评价曝光装置中的投影光学系统的像差，其特征在于，包括：/n转印工序，将掩模的多个图案要素通过所述曝光装置的所述投影光学系统转印到基板；/n第1工序，根据所述转印工序的转印结果，求出与基于所述投影光学系统的所述多个图案要素各自的投影位置有关的第1特性值，求出所述多个图案要素的所述第1特性值的平均值来作为表示所述投影光学系统的像差的第1信息；/n检测工序，使用接收来自所述投影光学系统的光的传感器，检测通过所述投影光学系统投影了的所述多个图案要素的像；/n第2工序，根据所述检测工序的检测结果，求出与基于所述投影光学系统的所述多个图案要素各自的投影位置有关的第2特性值，求出所述多个图案要素的所述第2特性值的平均值以及关于所述多个图案要素的各个图案要素的所述第2特性值与该第2特性值的平均值之差来作为表示所述投影光学系统的像差的第2信息；以及/n评价工序，根据作为所述第1信息的所述第1特性值的平均值和作为所述第2信息的所述差，将与基于所述投影光学系统的所述多个图案要素各自的投影位置有关的特性值作为评价用信息来求出，根据所述评价用信息，评价所述投影光学系统的像差。/n
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