[发明专利]掺杂ZrO2及制备方法、QLED器件及制备方法有效
申请号: | 201611182817.0 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN106698510B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 王宇;曹蔚然;杨一行;钱磊 | 申请(专利权)人: | TCL集团股份有限公司 |
主分类号: | C01G25/02 | 分类号: | C01G25/02;H01L51/56;H01L51/50 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 516006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开掺杂ZrO2及制备方法、QLED器件及制备方法,方法包括步骤:在锆盐的水溶液中,加入锌源和/或锡源,然后再加入氮源,并加入碱溶液,使反应体系pH=7.5‑9;然后将反应体系在150‑230℃下反应5‑24h;最后将反应后的溶液进行离心分离,并洗涤后,干燥得到掺杂ZrO2。本发明通过将锌源和/或锡源混合到锆盐的溶液中,使得氧化锆中掺入锡和/或锌元素,进而可以调节氧化锆的能级结构,降低了氧化锆的导带能级,提升其功函数,从而降低了载流子注入的势垒;并且可以通过调节能级,使得氧化锆可以和更多的量子点能级匹配;另外通过掺杂氮元素,进而使得氧化锆中产生更多的供体中心,进而促进了电子的传输。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 zro2 制备 方法 qled 器件 | ||
【主权项】:
1.一种掺杂ZrO2的制备方法,其特征在于,包括步骤:在锆盐的水溶液中,加入锌源和/或锡源,然后再加入氮源,并加入碱性溶液,使反应体系pH=7.5‑9;然后将反应体系在150‑230℃下反应5‑24h;最后将反应后的溶液进行离心分离,并洗涤后,干燥得到掺杂ZrO2。
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