[发明专利]一种计算过渡金属氧化物能带结构的方法在审
申请号: | 201611183029.3 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN106777988A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 王前进;谭秋红;刘应开 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | G06F19/00 | 分类号: | G06F19/00 |
代理公司: | 云南派特律师事务所53110 | 代理人: | 叶健 |
地址: | 650500 云南省昆*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种利用Quantum‑ESPRESSO软件计算过渡金属氧化物能带结构的方法,属于计算材料学领域。Quantum‑ESPRESSO软件基于密度泛函理论计算材料的电子结构,同时考虑了过渡金属的d电子和O的2p电子的库仑相互作用,准确计算出过渡金属氧化物的能带结构,为分析其磁学、电学及光学等方面的性能提供了理论基础。 | ||
搜索关键词: | 一种 计算 过渡 金属 氧化物 能带 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种计算过渡金属氧化物能带结构的方法,包括如下步骤:(1)建立晶体模型根据晶体所属的空间群、晶格常数,原子坐标建立晶体的结构模型;(2)参数及结构优化a.根据上述晶体的空间群、晶格常数、原子坐标建立Quantum‑ESPRESSO软件的输入文件,用XCRYSDEN可视化软件查看所建结构正确与否;b.利用PWGUI图形界面对输入文件的各参数进行设置,选取合适的赝势;c.对截断能(ecutwfc)及K点(K_POINTS)参数进行收敛测试,选取合适的截断能和K点,并优化晶格参数;(3)电子结构计算a.电子的自洽计算:利用步骤(2)优化后的晶格常数、截断能及K点参数设置lda_plus_u = .ture.用来衡量各元素的U值作用,对氧和过渡金属分别设定一定的U值,其中氧衡量的是2p电子相互作用,过渡金属衡量的是3d电子的相互作用,建好自洽输入文件,之后用pw.x执行自洽计算;b.非自洽计算:该输入文件与自洽输入文件不同之处为calculation须设置为'bands',同时设置nbnd用来设置计算能带的数目,设置K_POINTS高对称点以及之间的K点,其中高对称点的选取可借助于XCRYSDEN软件,之后用pw.x执行非自洽计算;c.利用bands.x计算出K点及对应的本征值;d.对得到的K点及本征值进行处理,可编程处理后用origin软件或用Quantum‑ESPRESSO自带的plotband.x后处理程序进行绘图。(4)重复步骤(3),根据实验带隙的大小及3d态的能量位置寻找合适的U值,并做出其对应的能带结构图。
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