[发明专利]一种基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法

摘要

本发明属于半导体制造技术领域，公开了一种基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，包括：获得标准版图几何信息数据库，获得待匹配版图几何信息，将待匹配版图几何信息和标准版图几何信息数据库中的几何信息进行匹配，根据匹配结果选取第一标准版图，将第一标准版图所对应的光刻解决方案作为待匹配版图的光刻解决方案候选，预测待匹配版图的光刻解决方案。解决了现有技术中不能分析未知或未受检测的几何图形组合、不能为未知的版图图形提供工艺研发的预选方案、无法直观反馈版图设计缺陷的问题。达到了为未知的版图图形提供工艺研发的预选方案，直观反馈版图设计缺陷的技术效果。

主权项

1.一种基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，其特征在于，所述方法包括：获得标准版图几何信息数据库；获得待匹配版图几何信息；将所述待匹配版图几何信息和所述标准版图几何信息数据库中的几何信息进行匹配；根据匹配结果选取第一标准版图；将所述第一标准版图所对应的光刻解决方案作为所述待匹配版图的光刻解决方案候选，预测所述待匹配版图的光刻解决方案；其中，所述获得标准版图几何信息数据库包括：获得标准版图集合以及集合中各个标准版图对应的光刻解决方案；根据所述标准版图获得所述标准版图的几何信息；对所述标准版图几何信息进行统计与分类；根据所述标准版图几何信息的提取结果、统计结果、分类结果，获得所述标准版图几何信息，并存入数据库；其中，所述标准版图的几何信息包括：标准版图中所有图形的线宽和间距和角对角的宽度和角对角的间距；其中，所述获得待匹配版图几何信息包括：获得待匹配版图的特征图形；根据所述特征图形获得所述特征图形的几何信息；对所述特征图形几何信息进行统计与分类；根据所述特征图形几何信息的提取结果、统计结果、分类结果，获得所述待匹配版图几何信息，并存储；其中，所述匹配结果包括：所述待匹配版图与所述标准版图的几何信息相似度的评价结果、单项几何指标匹配结果分布图表和分析报告。