[发明专利]消影增透导电玻璃在审
申请号: | 201611188163.2 | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN106587655A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 彭寿;李刚;杨勇;姚婷婷;金克武 | 申请(专利权)人: | 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;G06F3/041 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 | 代理人: | 陈俊 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开消影增透导电玻璃,包括玻璃基板,玻璃基板顶面由下至上依次层叠有上TiO2膜层、上SiO2膜层与ITO膜层,ITO膜层蚀刻有电极图案;玻璃基板底面由上至下依次层叠有第一下TiO2膜层、第一下SiO2膜层、第二下TiO2膜层与第二下SiO2膜层;所述上TiO2膜层的厚度为5~10nm、上SiO2膜层的厚度为40~60nm、ITO膜层的厚度为20~40nm;所述第一下TiO2膜层的厚度为12~18nm、第一下SiO2膜层的厚度为25~35nm、第二下TiO2膜层的厚度为95~135nm、第二下SiO2膜层的厚度为70~100nm;利用折射率不同的上TiO2膜层与上SiO2膜层起到消影作用,玻璃基板底部交错的四层介质层起到减反増透的效果,并由各膜层厚度的配合,提高产品的透过率,减少反射率,降低面电阻,使得触摸屏在强光下也可以清晰的显示。 | ||
搜索关键词: | 消影增透 导电 玻璃 | ||
【主权项】:
消影增透导电玻璃,其特征在于,包括玻璃基板,玻璃基板顶面由下至上依次层叠有上TiO2膜层、上SiO2膜层与ITO膜层,ITO膜层蚀刻有电极图案;玻璃基板底面由上至下依次层叠有第一下TiO2膜层、第一下SiO2膜层、第二下TiO2膜层与第二下SiO2膜层;所述上TiO2膜层的厚度为5~10nm、上SiO2膜层的厚度为40~60nm、ITO膜层的厚度为20~40nm;所述第一下TiO2膜层的厚度为12~18nm、第一下SiO2膜层的厚度为25~35nm、第二下TiO2膜层的厚度为95~135nm、第二下SiO2膜层的厚度为70~100nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司,未经蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611188163.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。