[发明专利]一种在零件内表面沉积DLC防护薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 201611190578.3 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN108385082A 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 孙刚;刘星;马国佳 申请(专利权)人: 中国航空制造技术研究院
主分类号: C23C16/04 分类号: C23C16/04;C23C16/26;C23C16/511
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100024 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了本发明一种在零件内表面沉积DLC防护薄膜的方法,该方法基于线形微波等离子体设备实现镀膜过程,本发明提出了引入线形微波等离子体在零件内壁镀防护薄膜的新方法,该方法可以在零件内腔制备出均匀的防护薄膜,所镀的保护膜致密、均匀,附着强度好;很好地解决了内径较细的管件内表面处理时等离子体难以进入管件内的难题。
搜索关键词: 防护薄膜 零件内表面 沉积 微波等离子体设备 等离子体 致密 微波等离子体 管件内表面 镀膜过程 零件内壁 零件内腔 保护膜 进入管 附着 制备 引入
【主权项】:
1.一种在零件内表面沉积DLC防护薄膜的方法,其特征在于,基于线形微波等离子体设备实现镀膜过程,所述方法包括以下步骤:将零件的内表面进行吹砂或抛光处理,用去离子水清洗5分钟,然后放入超声波用丙酮清洗;将一个以上零件套在内置同轴微波天线的石英圆管外围,安装时保持所有零件中心与石英管同轴,所有零件接负偏压并与腔室绝缘;将零件放入真空室抽真空,通入氩气,调节氩气流量在5~8sccm之间,气压控制在0.05~0.08Pa之间,开启气体离子源,其功率设定为200~300W,进行氩离子轰击清洗,清洗时间控制在30~60min之间;调节C2H2流量至100~150sccm,氩气流量调节至100~200sccm,气压控制在0.1~0.2Pa之间,打开脉冲偏压电源,调节频率值至30k~50kHz,占空比30%~50%,偏压‑50V~ ‑100V,调节微波功率至300W ~500W,在零件的内壁镀类金刚石薄膜。
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