[发明专利]一种单晶样片腐蚀机在审
| 申请号： | 201611190741.6 | 申请日： | 2016-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN108203845A | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 边永智;宁永铎;程凤伶;张亮;蔡丽艳 | 申请（专利权）人： | 有研半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B35/00 | 分类号： | C30B35/00;C30B33/10;G01N1/32 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青;熊国裕 |
| 地址： | 101300 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单晶样片腐蚀机。该单晶样片腐蚀机，包括机械手、腐蚀工艺槽、清洗水槽；其中，机械手上设有水平移动机构、垂直移动机构和吸盘转动机构；腐蚀工艺槽由带有通孔的腐蚀平台、带有控温盘管的混液槽、腐蚀剂溢流循环系统、设置在腐蚀工艺槽周围的排风系统组成。本发明的单晶样片腐蚀机可以实现对单晶样片进行表面化学腐蚀加工。在腐蚀过程中，通过稳定控制腐蚀剂温度，样片匀速旋转，腐蚀剂与样片均匀接触，实现样片表面腐蚀去除均匀稳定，可以实现样片表面快速腐蚀后表面均匀，镜面化效果好。由于只进行单面腐蚀，能大大降低腐蚀剂消耗，降低生产成本。设备本身有排风设置，可以有效降低化学气氛泄露。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀 单晶 腐蚀剂 腐蚀机 工艺槽 样片表面 吸盘 表面化学腐蚀 垂直移动机构 水平移动机构 机械手 单面腐蚀 化学气氛 均匀接触 排风系统 清洗水槽 稳定控制 循环系统 匀速旋转 转动机构 后表面 混液槽 镜面化 控温 排风 盘管 去除 通孔 溢流 泄露 消耗 加工 | ||
【主权项】：
1.一种单晶样片腐蚀机，其特征在于，包括机械手、腐蚀工艺槽、清洗水槽；其中，机械手上设有水平移动机构、垂直移动机构和吸盘转动机构；腐蚀工艺槽由带有通孔的腐蚀平台、带有控温盘管的混液槽、腐蚀剂溢流循环系统、设置在腐蚀工艺槽周围的排风系统组成。
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