[发明专利]一种提高水稻辐射诱变愈合畸变产生率的处理方法有效

专利信息
申请号: 201611193653.1 申请日: 2016-12-21
公开(公告)号: CN106718862B 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 李宏告;谢洪科;刘洪;胡蝶;张跃龙;李丽辉;胡瑶;邵赛;张乐平;邵颖;彭玲;李文革;张勇;杨震;张志德 申请(专利权)人: 湖南省核农学与航天育种研究所
主分类号: A01H1/06 分类号: A01H1/06
代理公司: 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 代理人: 杨斌;魏龙霞
地址: 410125 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种提高水稻辐射诱变愈合畸变产生率的处理方法,包括以下步骤:(1)将水稻种子采用高剂量的钴60γ射线进行照射;(2)将步骤(1)后的水稻种子进行微波辐照处理;(3)将步骤(2)后的水稻种子进行低剂量的钴60γ射线进行照射;(4)将步骤(3)后的水稻种子进行微波辐照处理;(5)将步骤(4)后的水稻种子进行栽培、优良性状选择、优良单株选择、优秀资源和品种鉴定。本发明将钴60γ射线和微波辐照处理这两种诱变方法相结合处理水稻种子,克服了单一诱变产生变异类型的限制,提高了诱变效率。
搜索关键词: 一种 提高 水稻 辐射 诱变 愈合 畸变 产生 处理 方法
【主权项】:
1.一种提高水稻辐射诱变愈合畸变产生率的处理方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将水稻种子采用高剂量的钴60γ射线进行照射;所述高剂量的钴60γ射线辐射剂量为400‑500GY;(2)将步骤(1)后的水稻种子进行微波辐照处理;微波辐照处理次数为2‑4次;(3)将步骤(2)后的水稻种子进行低剂量的钴60γ射线进行照射;所述低剂量的钴60γ射线辐射剂量为100‑200GY;(4)将步骤(3)后的水稻种子进行微波辐照处理;微波辐照处理次数为4‑6次;(5)将步骤(4)后的水稻种子进行栽培、优良性状选择、优良单株选择、优秀资源和品种鉴定;将所述步骤(2)中微波辐照处理后的水稻种子放置在温度为20‑30℃的环境中,存放7‑15天,再进行步骤(3)的低剂量的钴60γ射线照射;所述微波辐照处理过程中,水稻种子的温度不超过60℃,当种子的温度接近60℃时,停止微波辐照,待温度降低至室温时,继续进行微波辐照处理;所述微波辐照处理过程中,微波输出功率为300‑1000W,额定微波频率为2000‑3000MHz。
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