[发明专利]一种轴瓦内表面耐磨疏水滑移功能膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种轴瓦内表面耐磨疏水滑移功能膜的制备方法，通过超声辅助阳极氧化在轴瓦内表面制备微观粗糙结构；通过掩膜电解加工和超声辅助阳极氧化方法制备表面具有多级粗糙结构的金属滚压模具；将胶膜贴合在轴瓦内表面，并通过滚压将多级粗糙结构转印到胶膜表面；以氟硅烷纳米粒子悬浊液为低表面能修饰材料对粗糙表面进行修饰得到。本发明制备方法，采用柔性掩蔽膜进行掩膜电解加工制备有序微结构的方法适用于内曲表面；微细电解加工的掩蔽膜及滚压进行图形转移的滚压模具均可以重复利用，因此工艺成本低，有利于大规模应用。

主权项

1.一种轴瓦内表面耐磨疏水滑移功能膜的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：步骤1，通过超声辅助阳极氧化在轴瓦内表面制备微观粗糙结构，步骤1具体参数为：以轴瓦内表面作为为溶解阳极，在无掩蔽膜的条件下进行加工，同时调控超声参数进行辅助加工，电解参数为：电解液为5～30％NaNO3和5～30％NaCl，电流密度10～50A/dm2，电压3～10V，电极间隙5～40mm；超声参数为：超声频率为20KHz，超声功率为50～100W，待加工表面浸入电解液深度5～15mm；通过以上工艺，在轴瓦内表面生成整体上均匀的微观粗糙结构；步骤2，通过掩膜电解加工和超声辅助阳极氧化方法制备表面具有多级粗糙结构的金属滚压模具；步骤3，将胶膜贴合在步骤1处理后的轴瓦内表面，并通过滚压将步骤2得到的金属滚压模具表面的多级粗糙结构转印到胶膜表面；步骤4，以氟硅烷纳米粒子悬浊液为低表面能修饰材料对步骤3制备的粗糙表面进行修饰，得到轴瓦内表面耐磨疏水滑移功能膜，具体步骤如下：步骤4.1，将无水乙醇、三乙氧基(‑1H,1H,2H,2H‑十三氟辛基)硅烷和纳米二氧化硅混合得到氟硅烷纳米粒子悬浊液；其中无水乙醇、三乙氧基(‑1H,1H,2H,2H‑十三氟辛基)硅烷和纳米二氧化硅的质量比为100：0.5～2：5～15；步骤4.2，将步骤4.1得到的氟硅烷纳米粒子悬浊液作为疏水涂料喷涂到具有多级粗糙结构的胶膜表面，溶剂自然挥发5～20min，150℃烘烤10～30min，得到轴瓦内表面耐磨疏水滑移功能膜。