[发明专利]黑色二氧化钛复合薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201611200752.8 | 申请日： | 2016-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN106637104B | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 魏强;张立宪;梁砚琴;王绍丹;卢红 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人： | 王顕 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种黑色二氧化钛复合薄膜的制备方法方法，步骤如下：将普通TiO2粉末和分子筛粉末混合均匀，压片，得到靶材；将靶材置于真空环境下，调节入射激光束与靶材之间的角度以及基片基底与靶材的距离，确保激光激发产生的等离子体等物质可以溅射沉积到基片上；开启脉冲激光器，调节激光电压和频率，使激光聚焦辐照真空环境中的靶材；经一定时间辐照，即可在基片表面沉积一层均匀的黑色二氧化钛复合薄膜。该方法得到的薄膜为嵌入式黑色二氧化钛—非晶分子筛球体堆积型复合薄膜，不仅实现了纳米二氧化钛颗粒的有效负载，而且极大地拓宽了纳米二氧化钛的可见光响应范围，是一种具有良好应用前景的薄膜制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 黑色二氧化钛 复合薄膜 辐照 真空环境 制备 纳米二氧化钛颗粒 等离子体 分子筛 纳米二氧化钛 分子筛粉末 可见光响应 入射激光束 薄膜制备 基片表面 激光电压 激光激发 激光聚焦 溅射沉积 开启脉冲 球体堆积 有效负载 激光器 嵌入式 沉积 非晶 基底 压片 薄膜 应用 | ||
【主权项】：
1.一种黑色二氧化钛复合薄膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：1)将粉末状的二氧化钛和分子筛混合均匀，得到混合粉末；其中分子筛中的硅原子与二氧化钛中的钛原子的摩尔比为2～4:1；2)将步骤1)得到的混合粉末在压强为140～200MPa的条件下压片，得到靶材；3)将所述靶材在真空环境下，利用脉冲激光溅射沉积技术制备黑色二氧化钛复合薄膜，步骤如下：①调节入射激光束与靶材之间的角度以及基片基底与靶材的距离，确保激光激发所述靶材产生的等离子体能溅射沉积到基片上；②开启脉冲激光器调节激光参数，使激光聚焦辐照真空环境中的靶材；③辐照后，基片表面均匀沉积一层所述黑色二氧化钛复合薄膜。
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