[发明专利]一种非球面离子束成型装置及方法有效
| 申请号： | 201611204205.7 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN106736990B | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李云;邢廷文;付韬韬 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种非球面离子束成型装置及方法。所述装置包括真空舱、工件旋转机构、工件夹持架、被加工件、离子束掩模板和离子源；真空舱为离子源提供真空工作环境并容纳其它部件；工件旋转机构用于旋转被加工件；工件夹持架用于悬挂夹持被加工件；离子束掩模板根据非球面及离子束分布情况设计成特定的形状遮拦并形成特定形状及分布的离子束。本发明所述非球面离子束成型装置及方法能快速成型高质量的非球面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 球面 离子束 成型 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种非球面离子束成型装置，其特征在于，包括真空舱(1)、工件旋转机构(2)、工件夹持架(3)、被加工件(4)、离子束掩模板(5)和离子源(6)，其中，真空舱(1)用于给离子源(6)提供真空工作环境并容纳装置的其它部件，离子源(6)安装于真空舱(1)内侧底部，自下而上喷射高速离子束(7)，其喷射的离子束(7)穿过离子束掩模板(5)的孔洞入射到被加工件(4)表面，在其动能作用下轰击被加工件(4)表面原子，使其达到材料溅射去除的目的；工件旋转机构(2)安装于真空舱(1)内侧顶部，其下部安装工件夹持架(3)，被加工件(4)夹持在工件夹持架(3)上，工件旋转机构(2)最终用于驱动被加工件(4)绕其中心旋转；工件夹持架(3)将被加工件(4)的被加工面朝下悬挂夹持；离子束掩模板(5)安置于离子源(6)和被加工件(4)之间，用于遮挡部分离子以形成特定形状及分布的离子束(7)，离子束掩模板(5)的设计应结合离子束(7)的空间分布和被加工件(4)表面材料去除量的要求进行二维设计，被加工件(4)进行非球面成型过程中，离子束掩模板(5)相对离子源(6)保持不动，被加工件(4)在工件旋转机构(2)带动下绕被加工件(4)的中心匀速转动。
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