[发明专利]一种阵列结构量子点发光二极管器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611206399.4 申请日: 2016-12-23
公开(公告)号: CN106784369A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 李乐;向超宇;张滔;辛征航;张东华 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268 代理人: 王永文,刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种阵列结构量子点发光二极管器件及其制备方法,所述器件从下至上依次包括衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和顶电极,其中,所述底电极上还设置有一层具有蜂窝孔结构的阳极氧化铝膜,所述空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层和电子传输层均沉积在所述阳极氧化铝膜的蜂窝孔内。本发明将传统层状结构的QLED器件改变为阵列结构的QLED器件,所述阵列结构QLED器件能够将发光面细分为点阵发光,既可减少器件发热量,同时还可以更好的隔绝水分子及其它有害气体对QLED器件各个功能层的损害,从而达到延长QLED器件寿命的目的。
搜索关键词: 一种 阵列 结构 量子 发光二极管 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种阵列结构量子点发光二极管器件,从下至上依次包括衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和顶电极,其特征在于,所述底电极上还设置有一层具有蜂窝孔结构的阳极氧化铝膜,所述空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层和电子传输层均沉积在所述阳极氧化铝膜的蜂窝孔内。
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