[发明专利]一种柔性OLED显示屏薄膜的制备方法

摘要

本发明提供一种柔性OLED显示屏薄膜的制备方法，采用丙烯酸类树脂单体作为有机膜原料，将丙烯酸及衍生物单体蒸发到塑料衬底上，通过固化的方法聚合成膜，改善塑料衬底的表面情况，使之表面光滑，再采用射频磁控溅射的方法在有机膜上制备无机介质致密膜层，作为阻挡水和氧的屏障，本发明提供上述方法，克服了现有对柔性显示装置进行封装技术中将保护层在折弯柔性显示装置时容易断裂，从而使得水氧阻隔能力大幅降低，影响显示效果的技术缺陷，制备出的薄膜能够有效的阻隔水氧对显示屏的浸入，防止材料老化，延长了OLED器件寿命。

主权项

1.一种柔性OLED显示屏薄膜的制备方法，所述方法采用丙烯酸及衍生物单体作为有机膜原料，采用射频磁控溅射的方法在有机膜上制备无机介质致密膜层，包括以下步骤：（1）清洗塑料衬底，获得清洁的塑料衬底；清洗塑料衬底包括以下步骤：在乙醇溶液中超声清洗10‑15分钟，去除塑料衬底表面的油脂，然后用去离子水冲洗，去除塑料衬底表面的盐，在40‑50℃的氩气保护下烘干塑料衬底；所述氩气为纯度为99.9%，氩气的环境气压为100‑1000Pa；（2）在所述清洁塑料衬底上，采用100‑120℃的蒸发温度，真空度下，蒸镀50‑200nm的丙烯酸及衍生物单体，衬底温度设置为50‑80℃，使得蒸发到衬底的丙烯酸及衍生物单体经过聚合固化，凝结成一种柔性透明的膜；（3）然后在将Al2O3无机介质致密膜层通过射频溅射的方法，控制射频溅射的参数为溅射功率120W，溅射气压为0.5Pa，沉积温度为50℃沉积到聚合物薄膜层上，控制Al2O3无机介质致密膜层的厚度为200nm，再将VO2无机介质致密膜层通过射频溅射的方法，控制射频溅射的参数为溅射功率100W，溅射气压为0.6Pa，沉积温度为50℃沉积到Al2O3层上，控制VO2无机介质致密膜层的厚度为100nm，作为阻挡水汽和氧气的屏障。