[发明专利]CMP后清洗设备晶片惰轮结构及使用方法

摘要

一种CMP后清洗设备晶片惰轮结构及使用方法，该结构包括惰轴单元、与惰轴单元呈套接组合的惰轮单元、将惰轮单元锁定于惰轴单元上的压圈，以及贴合紧固于惰轴单元上的传感器。组合轴承呈孔轴定位方式压入基座内，组合轴承左侧外圈端面与基座左端口内侧贴合。压盖与基座右端口卡紧并呈孔轴方式压实组合轴承右侧外圈端面，惰轴右侧轴体呈孔轴配合贯穿组合轴承，至惰轴上的台阶状卡口贴合于组合轴承左侧内圈端面。惰轴右端呈孔轴方式穿入计数盘内，计数盘右端面由锁圈与惰轴右端锁定，计数盘左端口压实组合轴承右侧内圈端面。本发明可有效、准确针对CMP后清洗设备的晶片惰轮进行在线测速跟踪。

主权项

1.一种CMP后清洗设备晶片惰轮结构，其特征在于：包括惰轴单元（1）、与惰轴单元（1）呈套接组合的惰轮单元（2）、将惰轮单元（2）锁定于惰轴单元（1）上的压圈（4），以及贴合紧固于惰轴单元（1）上的传感器（3）；所述惰轴单元（1）包括基座（5）、惰轴（7）、组合轴承（8）、压盖（9）、计数盘（10）、锁圈（11）和直通接头（12）；所述组合轴承（8）呈孔轴定位方式压入基座（5）内，组合轴承（8）左侧外圈端面与基座（5）左端口内侧贴合；所述压盖（9）与基座（5）右端口卡紧并呈孔轴方式压实组合轴承（8）右侧外圈端面，直通接头（12）与压盖（9）呈螺纹方式旋紧密封；所述惰轴（7）右侧轴体呈孔轴配合贯穿组合轴承（8），至惰轴（7）上的台阶状卡口贴合于组合轴承（8）左侧内圈端面，惰轴（7）右端呈孔轴方式穿入计数盘（10）内，计数盘右端面由锁圈（11）与惰轴（7）右端锁定，计数盘左端口压实组合轴承（8）右侧内圈端面；所述惰轮单元（2）包括左夹盘（13）、右夹盘（14）以及被夹持于左夹盘（13）与右夹盘（14）之间的从动胶轮（15）；所述左夹盘（13）和右夹盘（14）套于惰轴（7）左侧轴体上，并由压圈（4）锁定；所述从动胶轮（15）中间环向开有晶片卡槽（15 .1），并在晶片卡槽槽口处带有晶片入口倒边（15 .2），从动胶轮（15）内侧带有被夹持端面（15 .3）。