[发明专利]一种高强度低磨耗耐磨球及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高强度低磨耗耐磨球及其制备方法，该耐磨球包括熔覆层与耐磨球基体，耐磨球基体其原料包括以下成分：C、Si、Mn、Cr、Ni、Cu、Al、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、V、Nd、W、P、Fe及不可避免的杂质。在制备过程中，利用激光熔覆处理技术，将合金粉末与陶瓷粉末熔覆在耐磨球基体表面，经预冷处理、深冷处理、低温回火、冷处理后回火得到所述高强度低磨耗耐磨球。本发明提出的一种高强度低磨耗耐磨球具有强度高、硬度大、抗氧化性好、耐腐蚀性好、磨耗低、使用寿命长等优点。

主权项

1.一种高强度低磨耗耐磨球，其特征在于，包括熔覆层与耐磨球基体，耐磨球基体其原料按质量分数包括以下成分：C：0.9～1.5％、Si：1.4～2.2％、Mn：0.4～1％、Cr：15.6～18％、Ni：0.45～0.6％、Cu：0.52～0.72％、Al：0.02～0.04％、Mg：0.01～0.025％、B：0.15～0.5％、Ti：0.2～0.6％、Zr：0.04～0.08％、Nb：0.01～0.03％、Mo：0.7～0.9％、V：0.04～0.08％、Nd：0.01～0.02％、W：0.04～0.07％、P≤0.02％，其余为Fe及不可避免的杂质；所述高强度低磨耗耐磨球的制备方法，包括以下步骤：S1、将原料按熔点从低到高加入中频感应熔炼炉中进行熔炼，得到钢水，经浇注成型得到耐磨球坯体；S2、将耐磨球坯体淬火处理，然后空冷至室温后进行低温回火得到耐磨球基体；S3、将干燥后的熔覆层粉末与粘结剂混合均匀制成膏状，然后涂覆在经清洗后的耐磨球基体表面，激光熔覆处理后，冷却到室温得到初级耐磨球；S4、将初级耐磨球预冷处理，再深冷处理，升至室温，经低温回火，然后冷处理，升至室温，在热水中静置，经低温回火后空冷至室温得到所述高强度低磨耗耐磨球；在S3中，激光熔覆处理工艺为：单道扫描，氩气保护激光池，光斑直径为3.2～4.2mm，扫描速度为5.5～6.5mm/s，功率为1.28～1.35kW；熔覆层粉末由合金粉末与陶瓷粉末混合均匀组成，且熔覆层厚度为1.1‑1.8mm；其中，陶瓷粉末粒径为60～70nm，合金粉末的粒径为80～100μm，陶瓷粉末的重量占熔覆层粉末总重量的5～9wt％；合金粉末按质量分数包括以下成分：C：0.4～0.8％、Cr：10～13.5％、B：0.8～1.5％、Sc：0.03～0.08％、Si：0.8～1.1％、Zr：0.1～0.3％、Ni：4～8％、Ce：0.05～0.09％、La：0.08～0.12％，余量为Fe及不可避免的杂质。