[发明专利]一种均匀抽真空的双工位真空处理器

摘要

本发明涉及一种均匀抽真空的双工位真空处理器，设置有可作为工艺处理反应室的两个真空处理腔，和连通这两个真空处理腔的共用的偏心抽气口及真空泵，其中每个真空处理腔内在靠近偏心抽气口的区域设有在竖直方向具有设定厚度的阻尼体，来降低对抽气口近端气体的抽气速率，来与抽气口远端气体的抽气速率平衡，改善腔体偏心对工艺处理均匀性的影响。本发明还可以在作为阻尼体的筋条内部进一步开设连通腔体外部大气环境的通道，方便腔内缆线管路与外界的连接。

主权项

1.一种双工位真空处理器，设置有作为工艺处理反应室的两个真空处理腔，和连通这两个真空处理腔的共用的偏心抽气口及真空泵，其特征在于，所述双工位真空处理器中，每个真空处理腔内在调节区域设有阻尼体；所述阻尼体在竖直方向具有设定的厚度，并且该阻尼体横向延伸使其向下的投影与所述偏心抽气口具有相互重叠的区域；所述调节区域包含真空处理腔内靠近抽气口的区域；每个真空处理腔的底板上设有纵向延伸的挡板，挡板顶部设置的密封板上安装有放置基片的基座，所述密封板和所述挡板共同围绕构成的空间底部具有与大气环境相连通的第一大气环境通道，密封板的顶部和所述挡板的外侧壁位于真空处理腔内的真空环境；所述阻尼体包含从其所在真空处理腔的挡板外侧壁，朝着两个真空处理腔之间共用侧壁横向延伸的一个或多个筋条，所述筋条的末端连接至共用侧壁；在所述筋条内开设有第一通道，所述第一通道与在所述共用侧壁内开设的第二通道连通，并经由所述第二通道设置的接口与真空处理腔外部的大气环境连通以形成第二大气环境通道。