[发明专利]一种染色制片用缓冲清洗液及其制备方法在审
| 申请号： | 201611227075.9 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108239581A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 孙红安 | 申请（专利权）人： | 孝感市森茂激光数控设备有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/10;C11D7/08;G01N1/30 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 倪先元 |
| 地址： | 432000 湖北省孝*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种染色制片用缓冲清洗液及其制备方法，由浓度为0.2‑0.6g/L 的KH2PO4、1‑2g/L 的Na2HPO4、0.1‑0.3g/L的 CaCl2、0.06‑0.1g/L MgCl2以及二次蒸馏水构成，溶液的pH为6.4‑6.8。该缓冲清洗液成分较为简单、性质稳定，一次性可大量制备，采用该缓冲清洗液染色制得的玻片合格率较高，重滴率大幅降低。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗液 缓冲 制备 染色制片 二次蒸馏水 性质稳定 一次性 染色 玻片 合格率 | ||
【主权项】：
1.一种染色制片用缓冲清洗液，其特征在于：由KH2PO4、Na2HPO4、CaCl2、MgCl2、HCl以及二次蒸馏水构成，其中KH2PO4的浓度为0.2‑0.6g/L，Na2HPO4的浓度为1‑2g/L，CaCl2的浓度为0.1‑0.3g/L，MgCl2的浓度为0.06‑0.1g/L，溶液pH为6.4‑6.8。
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