[发明专利]显示基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611228190.8 申请日: 2016-12-27
公开(公告)号: CN106783883A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 杜生平;苏同上;黄正峰;杨玉;马云;郭稳;刘丽华 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 汪源,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种显示基板及其制备方法,包括在衬底基板的上方且位于非像素区域内形成薄膜晶体管;在薄膜晶体管的上方形成钝化层;在钝化层的上方且位于彩色像素区域内形成彩色色阻;在钝化层和彩色色阻的上方形成平坦化层;减薄彩色像素区域中的平坦化层的厚度;在平坦化层的上方形成显示电极,显示电极与薄膜晶体管中的漏极过孔连接。本发明的技术方案通过对位于彩色像素区域中的平坦化层进行减薄处理,以使得位于彩色色阻上方的平坦化层膜厚减小,从而能有效改善平坦化层的平坦性。此外,由于彩色色阻上方的平坦化层膜厚减小,可使得显示电极与漏极之间的高度差减小,从而可有效降低显示电极出现断裂的风险。
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法
【主权项】:
一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述显示基板划分有非像素区域和彩色像素区域,所述显示基板的制备方法包括:在衬底基板的上方且位于所述非像素区域内形成薄膜晶体管;在所述薄膜晶体管的上方形成钝化层;在所述钝化层的上方且位于所述彩色像素区域内形成彩色色阻;在所述钝化层和所述彩色色阻的上方形成平坦化层;减薄所述彩色像素区域中的所述平坦化层的厚度,以使得所述彩色像素区域中的所述平坦化层的厚度小于所述非像素区域中的所述平坦化层的厚度;在所述平坦化层的上方形成显示电极,所述显示电极与所述漏极过孔连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611228190.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top