[发明专利]靶材制备方法和吸气剂薄膜形成方法有效
| 申请号： | 201611232165.7 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106591790B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 庄玉召;王景道;钱良山;姜利军 | 申请（专利权）人： | 杭州大立微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/30;C22C16/00;C23C14/04 |
| 代理公司： | 31294 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 310053 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种靶材制备方法和吸气剂薄膜形成方法，所述靶材制备方法包括：在惰性气体氛围下，按照靶材各组分质量分数比例进行配料，形成混料；在真空或惰性气体氛围下，对混料进行熔炼并冷却，形成合金锭；在惰性气体氛围下，对合金锭进行粉碎，获得合金粉末；将合金粉末装入包套后进行热等静压处理，获得带包套的靶坯。对所述靶坯利用物理气相沉积法制备薄膜，配合光刻‑剥离工艺或硬掩膜版技术实现薄膜的图形化，上述方法能够制备形成高均匀性、高致密度的合金靶材和薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 惰性气体氛围 靶材 制备 合金粉末 合金锭 包套 混料 薄膜 物理气相沉积 法制备薄膜 剥离工艺 薄膜形成 高均匀性 合金靶材 技术实现 热等静压 质量分数 熔炼 图形化 吸气剂 硬掩膜 光刻 装入 冷却 配合 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成吸气剂薄膜的靶材制备方法，其特征在于，包括：/n在惰性气体氛围下，按照靶材各组分质量分数比例进行配料，形成混料，所述靶材各组分包括主体活性组分、辅辅助活性组分以及掺杂组分，且主、辅活性组分一起混匀，掺杂组分单独混匀，分别球磨形成混料，且Zr作为主体活性元素，质量分数为50％～90％；Co为辅助活性元素，质量分数为5％～45％；Mo、Hf、Ta、Ru、Nb、W、Y及稀土元素中至少一种作为掺杂元素，质量分数为1％～20％；/n在真空或惰性气体氛围下，对混料进行熔炼并冷却，形成合金锭；/n对混料进行熔炼包括：/n先熔炼靶材中的主体活性组分、辅助活性组分混料，获得两者的合金液，再向合金液中加入靶材中的掺杂组分混料，以避免因组分蒸发导致所得的合金锭中各组分含量与预期不符；/n在惰性气体氛围下，对合金锭进行粉碎，获得合金粉末；/n将合金粉末装入包套后进行热等静压处理，获得带包套的靶坯，且装入包套内的合金粉末的粉体密度大于理论粉体密度的70％。/n
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