[发明专利]一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法有效
申请号: | 201611234973.7 | 申请日: | 2016-12-28 |
公开(公告)号: | CN106699146B | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 叶德林;洪卫;李辉;黄诗程;段佑平;谢石长 | 申请(专利权)人: | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司 |
主分类号: | C04B35/14 | 分类号: | C04B35/14;C04B35/622;C04B41/89;C04B41/86;C03C8/14;C03C8/04 |
代理公司: | 广州圣理华知识产权代理有限公司 44302 | 代理人: | 顿海舟;李唐明 |
地址: | 528061 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法,所述制造方法包括以下步骤:(1)制备素坯;(2)施底釉;(3)施面釉;(4)淋施莹光干粒釉浆,以制成陶瓷釉面砖初产品;(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧,以制成陶瓷釉面砖半成品;(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理,即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖。所获得的半抛陶瓷釉面砖莹光质感强且产品质量稳定。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 效果 陶瓷 釉面砖 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖的制造方法,其包括以下步骤:(1)制备素坯;(2)施底釉;(3)施面釉;(4)淋施莹光干粒釉浆,以制成陶瓷釉面砖初产品;(5)对步骤(4)获得的陶瓷釉面砖初产品进行釉烧,以制成陶瓷釉面砖半成品;(6)对步骤(5)获得的陶瓷釉面砖半成品的表面进行半抛光处理,即得具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖,其中,所述步骤(4)中淋施的莹光干粒釉浆包含莹光干粒,所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为:SiO2 66%‑71%、Al2O3 13%‑16%、Fe2O3 0%‑0.2%、TiO2 0%‑0.1%、CaO 6%‑8%、MgO 0.1%‑0.5%、K2O 3.5%‑4.5%、Na2O 0.5%‑1%、ZnO 1%‑2%、BaO 0%‑0.5%,优选地,所述莹光干粒的的化学组成质量百分数为:SiO2 70.49%、Al2O3 15.58%、Fe2O3 0.09%、TiO2 0.01%、CaO 6.99%、MgO 0.08%、K2O 3.82%、Na2O 0.94%、ZnO 1.98%、BaO 0.02%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市三水新明珠建陶工业有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司,未经佛山市三水新明珠建陶工业有限公司;广东新明珠陶瓷集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611234973.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种陶瓷土及其制备方法
- 下一篇:一种易洁日用陶瓷及其制备方法