[发明专利]曝光控制方法和装置有效
| 申请号： | 201611238280.5 | 申请日： | 2016-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN106713778B | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 沈雨剪 | 申请（专利权）人： | 上海兴芯微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235 |
| 代理公司： | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人： | 吴靖靓 |
| 地址： | 201900 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明技术方案公开了一种曝光控制方法和装置，所述曝光控制方法包括：计算场景平均亮度；根据场景照度评估、直方图亮部区域占比和直方图暗部区域占比进行场景识别，以获得自适应场景的目标亮度值；根据场景平均亮度和自适应场景的目标亮度值调整图像传感器的参数，以提升或降低图像亮度。本发明技术方案的曝光控制方法和装置针对场景的复杂性和多样性进行自适应调整，并且保证其自动曝光控制的速度和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 控制 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光控制方法，其特征在于，包括：计算场景平均亮度AVG；根据场景照度评估SCENELUMA、直方图亮部区域占比HP_PDF和直方图暗部区域占比LP_PDF进行场景识别，以获得自适应场景的目标亮度值TARGET，所述自适应场景的目标亮度值对应于识别出的场景类型，所述场景照度评估SCENELUMA根据当前配置到图像传感器的曝光行和增益的乘积再除以当前的显示帧率获得，所述直方图亮部区域占比HP_PDF根据公式![]()
获得，所述直方图暗部区域占比LP_PDF根据公式![]()
获得，其中，PDF(i)为直方图概率密度分布、BRIGHTTHR_L为亮部区域低门限、BRIGHTTHR_H为亮部区域高门限、DARKTHR_L为暗部区域低门限、DARKTHR_H为暗部区域高门限；根据场景平均亮度AVG和自适应场景的目标亮度值TARGET调整图像传感器的参数，以提升或降低图像亮度。
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