[发明专利]一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法有效
申请号: | 201611242102.X | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106861461B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 尹园;高健;郑春柏;魏巍;柳美华;邓鹏飏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春应用化学研究所 |
主分类号: | B01D71/26 | 分类号: | B01D71/26;B01D71/18;B01D67/00;A61M1/34;C08J7/18;C08L23/12;C08L23/06;C08L67/02 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙) 22210 | 代理人: | 李外 |
地址: | 130000 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明提供一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜及其制备方法,属于MOF膜技术领域。该羟基修饰MOF膜,结构式如式Ⅰ所示。本发明还提供一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜的制备方法,该方法先制备溴取代的羟基修饰MOF材料;对溴取代的羟基修饰MOF材料中的羟基进行保护,得到羟基保护的MOF;然后将羟基保护的MOF和格式试剂反应,得到带双键的MOF材料;最后将带双键的MOF材料通过预辐射或共辐照方法接枝在高分子基底材料表面,得到羟基修饰MOF膜。该MOF膜在血液中对Mn2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+、Pb2+等重金属离子具有高清除性能且原位捕捉的特点。 | ||
搜索关键词: | 羟基修饰 重金属离子 制备 血液 羟基保护 溴取代 双键 高分子基 格式试剂 清除性能 辐照 接枝 羟基 捕捉 辐射 | ||
【主权项】:
1.一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜,其特征在于,结构式如式Ⅰ所示:式Ⅰ中,R为Zr或Fe,代表高分子基底材料;所述的一种对血液中重金属离子高清除的羟基修饰MOF膜的制备方法,该方法包括:步骤一:制备溴取代的羟基修饰MOF材料;步骤二:对步骤一得到的溴取代的羟基修饰MOF材料中的羟基进行保护,得到羟基保护的MOF;步骤三:将步骤二得到的羟基保护的MOF和格式试剂反应,得到带双键的MOF材料;步骤四:将步骤三得到的带双键的MOF材料通过预辐射或共辐照方法接枝在高分子基底材料表面,得到羟基修饰MOF膜。
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