[发明专利]一种对血液中重金属离子高清除的硫基修饰MOF膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611242117.6 申请日: 2016-12-29
公开(公告)号: CN106902649B 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 高健;郑春柏;魏巍;柳美华;张依帆;邓鹏飏 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: B01D71/26 分类号: B01D71/26;B01D71/48;B01D67/00;C08G83/00;C08J7/18;A61M1/34;C08L23/12;C08L23/06;C08L67/02;C08L87/00
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙) 22210 代理人: 李外
地址: 130000 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供一种对血液中重金属离子高清除的硫基修饰MOF膜及其制备方法,属于MOF膜技术领域。该硫基修饰MOF膜结构式如式Ⅰ、式Ⅱ或式Ⅲ所示,本发明还提供一种对血液中重金属离子高清除的硫基修饰MOF膜的制备方法,该方法先制备巯基修饰MOF材料或溴取代巯基修饰的MOF材料;将巯基修饰MOF材料或溴取代巯基修饰的MOF材料中的巯基进行保护,得到巯基保护的MOF;然后将巯基保护的MOF和格式试剂反应,得到带双键的MOF材料;最后将带双键的MOF材料通过预辐射或共辐照方法接枝在高分子基底材料表面,得到硫基修饰MOF膜。本发明的硫基修饰MOF膜在血液中对Cu2+、Cd2+、Hg2+、Pb2+、As3+等金属离子具有高清除性能且原位捕捉的特点。
搜索关键词: 修饰 硫基 重金属离子 巯基修饰 血液 制备 巯基保护 溴取代 双键 辐照 高分子基 格式试剂 金属离子 清除性能 制备巯基 接枝 巯基 捕捉 辐射
【主权项】:
1.一种对血液中重金属离子高清除的硫基修饰MOF膜,其特征在于,结构式如式Ⅰ、式Ⅱ或式Ⅲ所示:式Ⅰ、式Ⅱ或式Ⅲ中,R为Zr或Fe,代表高分子基底材料;所述的结构式为式Ⅰ、式Ⅱ或式Ⅲ一种对血液中重金属离子高清除的硫基修饰MOF膜的制备方法,包括:步骤一:制备巯基修饰MOF材料或溴取代巯基修饰的MOF材料;步骤二:将步骤一制备得到的巯基修饰MOF材料或溴取代巯基修饰的MOF材料中的巯基进行保护,得到巯基保护的MOF;步骤三:将步骤二得到的巯基保护的MOF和格式试剂反应,得到带双键的MOF材料;所述的格式试剂为乙烯基氯化镁、烯丙基氯化镁、3‑丁烯氯化镁、烯丙基溴、溴乙烯、4‑溴‑1‑丁烯或5‑溴‑1‑戊烯;步骤四:将步骤三得到的带双键的MOF材料通过预辐射或共辐照方法接枝在高分子基底材料表面,得到硫基修饰MOF膜。
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