[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器在审

专利信息
申请号: 201611243959.3 申请日: 2016-12-29
公开(公告)号: CN106773250A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 向长江 申请(专利权)人: 东旭(昆山)显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 韩冰,严政
地址: 215300 江苏省苏州市昆山市开*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及显示器的加工领域,具体地,涉及一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器。该彩膜基板包括衬底基板、黑矩阵、像素单元和导电层;其中所述黑矩阵覆盖在所述衬底基板上形成黑矩阵图案,且所述衬底基板上对应于所述黑矩阵图案的开口处形成有像素凹槽;所述像素单元与所述像素凹槽一一对应的填充在相应的像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口中,且所述像素单元的上表面与所述黑矩阵的上表面平齐;所述导电层覆盖在所述黑矩阵和所述像素单元的表面上。该彩膜基板能避免因黑矩阵与像素单元之间存在高度差所引起的漏光现象,并能避免因形成重叠区域产生的角段差,进而有利于优化包括这种彩膜基板的显示面板的显示效果。
搜索关键词: 一种 彩膜基板 及其 制备 方法 以及 显示 面板 显示器
【主权项】:
一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括衬底基板(1)、黑矩阵(2)、像素单元(3)和导电层(4);其中所述黑矩阵(2)覆盖在所述衬底基板(1)上形成黑矩阵图案,且所述衬底基板(1)上对应于所述黑矩阵图案的开口处形成有像素凹槽;所述像素单元(3)与所述像素凹槽一一对应的填充在相应的像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口中,且所述像素单元(3)的上表面与所述黑矩阵(2)的上表面平齐;所述导电层(4)覆盖在所述黑矩阵(2)和所述像素单元(3)的表面上。
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