[发明专利]一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构在审
| 申请号： | 201611245112.9 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN106840394A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 裴琳琳;吕群波;刘扬阳;王建威;孙建颖;李伟艳;张丹丹;陈鑫雯 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | G01J3/04 | 分类号： | G01J3/04;G01J3/02;G01J3/28;G01J3/447 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司11260 | 代理人： | 郑立明,郑哲 |
| 地址： | 100080 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构，包括基底，所述基底上通过激光刻蚀工艺从上到下依次刻蚀有三条狭缝，狭缝的尺寸以及狭缝之间的间距均相等，在三条狭缝结构处通过镀膜工艺实现偏振功能，从上到下，狭缝分别对应0°、45°、90°三个偏振态。该偏振多狭缝结构具有高精度、高平行度、高稳定性以及高可靠性的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 成像 光谱仪 偏振 狭缝 结构 | ||
【主权项】：
一种用于成像光谱仪的偏振多狭缝结构，其特征在于，包括：基底，所述基底上通过激光刻蚀工艺从上到下依次刻蚀有三条狭缝，狭缝的尺寸以及狭缝之间的间距均相等，在三条狭缝结构处通过镀膜工艺实现偏振功能，从上到下，狭缝分别对应0°、45°、90°三个偏振态。
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