[发明专利]一种电子设备、阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201611247179.6 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN106483719B | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 邓竹明 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1339 | 分类号： | G02F1/1339;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电子设备、阵列基板及其制作方法，其中制作方法包括通过在基层一侧形成并排设置的多个色阻层及多个凸块，凸块由色阻层中的至少一部分堆叠形成，且凸块的高度不一，并且在色阻层上进一步设置遮光层，遮光层与凸块一起形成间隔柱。通过上述方式，本发明无需设计专门的光罩以形成具有不同高度差的间隙物，简化制程并且降低生产成本，并且改善了显示基板显示不均的状况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子设备 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：在基层一侧形成并排设置的至少第一色阻层、第二色阻层、至少第一凸块、第二凸块，所述第一凸块由所述至少第一色阻层、第二色阻层中的两个色阻层的各自一部分堆叠而成，所述第二凸块是由所述至少第一色阻层、第二色阻层中的一个色阻层的一部分构成，所述第一凸块高于所述第二凸块；在所述基层一侧形成与所述至少第一色阻层、第二色阻层一起并排设置的遮光层，并且所述第一凸块之上的所述遮光层跟随凸起以形成第一间隔柱，并高于所述第二凸块之上的所述遮光层跟随凸起以形成的第二间隔柱。
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