[发明专利]一种制备过渡金属一氧化物粉体、靶材和薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 201611247869.1 申请日: 2016-12-29
公开(公告)号: CN106673047A 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 黄富强;王东;黄冲 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C01G1/02 分类号: C01G1/02
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 郑优丽;熊子君
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种制备过渡金属一氧化物粉体、靶材和薄膜的方法,所述方法包括:将摩尔比1:1~1.2:1的过渡金属M粉末和过渡金属M的氧化物粉末作为反应原料,与质量为反应原料总质量的0.5~2.5倍、优选0.5~2倍的碱金属卤化物充分混合后,真空封装于反应器中,于900~1100摄氏度反应5~10小时,得到过渡金属一氧化物粉体,将该过渡金属一氧化物粉体进行放电等离子体烧结,得到过渡金属一氧化物靶材,并将该过渡金属一氧化物靶材生长薄膜,得到过渡金属一氧化物薄膜。本发明能够低温、快速制备过渡金属一氧化物粉体、靶材和薄膜。
搜索关键词: 一种 制备 过渡 金属 一氧化物 薄膜 方法
【主权项】:
1.一种低温、快速制备纯相过渡金属一氧化物粉体的方法,其特征在于,所述过渡金属一氧化物为MO,其中M为Ti、V、Nb中的至少一种,所述方法包括:将摩尔比1:1~1.2:1的过渡金属M粉末和过渡金属M的氧化物粉末作为反应原料,与质量为反应原料总质量的0.5~2.5倍的碱金属卤化物充分混合后,真空封装于反应器中,于900~1100摄氏度反应5~10小时。
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