[发明专利]用于形成色阻层、黑矩阵的拼接单元光罩有效

专利信息
申请号: 201611249485.3 申请日: 2016-12-29
公开(公告)号: CN107065428B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 应见见;杜鹏 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;G02F1/1335
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于形成色阻层的拼接单元光罩及用于黑矩阵的拼接单元光罩,属于显示技术领域,解决了现有的拼接曝光技术存在易产生拼接斑纹的技术问题。该用于形成色阻层的拼接单元光罩,包括透光区域和不透光区域;所述透光区域对应于色阻层的去除区域,所述不透光区域对应于色阻层的保留区域;所述拼接单元光罩的边缘设置有拼接重叠区域,所述拼接重叠区域位于黑矩阵区域之内。
搜索关键词: 用于 形成 色阻层 矩阵 拼接 单元
【主权项】:
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