[发明专利]一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件有效

专利信息
申请号: 201611250226.2 申请日: 2016-12-29
公开(公告)号: CN106840402B 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 李立波;王爽;邹纯博;刘学斌;孙剑;赵强;李娟 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01J3/427 分类号: G01J3/427;G01J3/28;G01J3/02;G01J3/06
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司61211 代理人: 胡乐
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件。该组件包括两个成V形反射摆镜及一个倾斜设置的定标反射镜,两个摆镜与定标反射镜之间的相对位置固定,可沿转轴正负90°旋转,用于实现两个光谱成像仪高精度同步摆扫和在轨定标功能。该组件由于只需要一个运动部件、结构紧凑、易于装调,很好满足了星载设备对于重量、体积和可靠性的要求。
搜索关键词: 一种 用于 光谱 成像 定标 组件
【主权项】:
一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件,其特征在于:包括相对固定的第一摆镜、第二摆镜和定标反射镜,能够沿共同的转轴进行摆动;其中第一摆镜与第二摆镜背向设置成V型,所述定标反射镜位于两个摆镜的V型夹角空间的角平分线上,定标反射镜与两个摆镜背向并倾斜设置;所述转轴位于定标反射镜限制的V型夹角范围内,两个摆镜的中心到转轴的距离相等,两个摆镜的法线均与转轴垂直;驱动第一摆镜、第二摆镜和定标反射镜沿转轴摆动,能够通过定标反射镜将定标光束分别引入到两台光谱成像仪中,两个摆镜的出射光轴对应光谱成像仪的入射光轴,两个摆镜将来自地物目标的光线分别反射到两台光谱成像仪中。
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