[发明专利]一种反置顶发射QLED器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611256939.X 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN108269927A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 曹蔚然;杨一行;刘政;钱磊 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种反置顶发射QLED器件及其制备方法,其中,所述反置顶发射QLED器件包括依次叠层设置的衬底、反射阴极、电子传输层、量子点发光层、空穴传输层及透明阳极,所述量子点发光层采用具有量子阱能级结构的量子点材料制备而成,所述量子点材料包括至少一个在径向方向上依次排布的量子点结构单元,所述量子点结构单元为径向方向上能级宽度变化的渐变合金组分结构或径向方向上能级宽度一致的均一组分结构,可实现具有高效电荷注入、高发光亮度、低驱动电源以及高器件效率等优异性能的高效QLED器件。
搜索关键词: 顶发射 反置 制备 能级 量子点材料 量子点结构 组分结构 发光层 量子点 阴极 电子传输层 空穴传输层 宽度变化 宽度一致 能级结构 器件效率 驱动电源 透明阳极 优异性能 电荷 量子阱 渐变 衬底 叠层 均一 排布 反射 合金 发光
【主权项】:
1.一种反置顶发射QLED器件,包括依次叠层设置的衬底、反射阴极、电子传输层、量子点发光层、空穴传输层及透明阳极,其特征在于,所述量子点发光层采用具有量子阱能级结构的量子点材料制备而成,所述量子点材料包括至少一个在径向方向上依次排布的量子点结构单元,所述量子点结构单元为径向方向上能级宽度变化的渐变合金组分结构或径向方向上能级宽度一致的均一组分结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL集团股份有限公司,未经TCL集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611256939.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top