[发明专利]用于在受检者内的对象的成像期间调整辐射剂量的系统和方法有效
| 申请号： | 201611260937.8 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN107260189B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | C.里德尔;R.维兰;K.S.巴楚瓦 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 郑浩;刘春元 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了用于在受检者内的对象的成像期间调整辐射剂量的方法。方法包含识别在包含对象的第一帧中的任务，第一帧经由使受检者暴露于辐射波束来生成；并且在生成包含对象的第二帧前至少部分基于任务而调整辐射波束，第二帧经由使受检者暴露于辐射波束来生成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 受检 对象 成像 期间 调整 辐射 剂量 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在受检者内的对象的成像期间调整辐射剂量的方法，所述方法包括：识别在包含所述对象的第一帧中的任务，所述第一帧经由使所述受检者暴露于辐射波束来生成；以及在生成包含所述对象的第二帧前至少部分基于所述任务而调整所述辐射波束，所述第二帧经由使所述受检者暴露于所述辐射波束来生成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司，未经通用电气公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611260937.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
