[发明专利]岩质边坡植被生长基质条件再造方法在审
| 申请号： | 201611266546.7 | 申请日： | 2016-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN106665167A | 公开（公告）日： | 2017-05-17 |
| 发明（设计）人： | 柴修伟;倪小山;阎要峰;杨美洪;许奎;徐亮;李智;赵军;李明义 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学;湖北兴发化工集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A01G9/02 | 分类号： | A01G9/02;A01G9/10;A01G1/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人： | 刘洋 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种岩质边坡植被生长基质条件再造方法。包括以下步骤：岩质边坡上按照与坡面法线夹角10°内的方向选位钻孔；在钻孔底部填装碎石厚度25‑35cm；中间填装沙土厚度25‑35cm；表层填装腐殖土厚度45‑55cm；将植被根部种植在腐殖土中。所述植被为沙地柏、铺地柏、爬山虎的任意一种或者混合。孔径为45‑55mm，孔深为0.95～1.25m，孔距为1‑1.4m，排距为1.3‑1.5m。本发明给植物的生长、根系延伸和充足的基质条件提供空间，而且所选取的孔网参数，是考虑到既不能破坏岩质边坡的自身稳定性，也要满足植物自身正常生长的空间和生长基质的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 岩质边坡 植被 生长 基质 条件 再造 方法 | ||
【主权项】：
岩质边坡植被生长基质条件再造方法，其特征在于包括以下步骤：1)岩质边坡上按照与坡面法线夹角10°内的方向选位钻孔；2)在钻孔底部填装碎石厚度25‑35cm；中间填装沙土厚度25‑35cm；表层填装腐殖土厚度45‑55cm；将植被根部种植在腐殖土中。
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