[发明专利]用于探测微粒辐射的方法有效
申请号: | 201611271117.9 | 申请日: | 2016-11-11 |
公开(公告)号: | CN106680860B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | B·J·詹斯森;E·M·弗兰肯;M·库伊珀;L·于 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 申屠伟进;郑冀之 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开用于探测微粒辐射的方法。当用像素化探测器探测微粒辐射诸如电子时,电子/空穴对的云被形成于探测器中。使用由该电子/空穴对的云导致的信号,估计撞击的位置。发明人发现,当云的尺寸与像素尺寸相当或比像素尺寸小得多时,估计的位置示出对像素的中心和角落、以及对边界的中间的强偏置。这阻碍形成具有超分辨率的图像。通过移动位置或通过将电子归于数个亚像素,这种偏置可以被抵消,造成更真实的表示。发明人还发现,通过扩展图像,图像中的Moire效应和干涉可以被抵消。只要图像是稀疏图像(几乎所有像素表示一个撞击或没有撞击),这种扩展就是可逆的过程。在扩展(有效地,空间低通滤波)之后,高通滤波可以用于对图像匀边。 | ||
搜索关键词: | 用于 探测 微粒 辐射 方法 | ||
【主权项】:
一种使用基于半导体的像素化探测器探测微粒辐射的方法,探测器像素具有探测器像素尺寸,探测器对微粒辐射敏感,每个微粒辐射的粒子在探测器的半导体材料中导致许多电子/空穴对,所述许多电子/空穴对具有质心和质心范围,质心范围的范围大于探测器像素尺寸,该方法包括:·拦截微粒辐射的粒子的步骤,·估计针对许多相邻探测器像素的电子/空穴对的数量的步骤,·使用相邻探测器像素中的电子/空穴对的估计来估计所述数量的电子/空穴对的质心的位置的步骤,·使用所述估计的质心的位置来估计粒子的撞击位置的步骤,·使用许多估计的撞击位置的估计的位置来形成像素化图像的步骤,所述像素化图像由具有强度的图像像素组成。特征在于当估计撞击位置时,所述估计具有取决于在探测器像素之内的位置的位置相关偏置,以及每个估计的撞击位置对对应图像像素的贡献被调节以抵消所述位置相关偏置的作用。
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