[实用新型]真空紫外光谱采集装置有效

专利信息
申请号: 201620005367.7 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN205373884U 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 王庆祥;吕全超;洪波;吴锋明;俞晓峰;胡建坤;喻正宁;韩双来 申请(专利权)人: 聚光科技(杭州)股份有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310052 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种真空紫外光谱采集装置,包括测量光室,所述光谱采集装置进一步包括:循环单元,所述循环单元与测量光室相连通,并与所述测量光室构成循环气路;气路选择单元,所述气路选择单元设置在所述循环气路上,使所述测量光室选择性地连通循环气路和/或恒压单元;恒压单元,所述恒压单元设置在与所述循环气路相连的气体支路上;压力传感器,所述压力传感器用于监测测量光室的压力;控制单元,所述控制单元根据所述测量光室的压力变化调节所述气路选择单元。本实用新型具有成本低、装置稳定、测量准确、自动恒压等优点。
搜索关键词: 真空 紫外 光谱 采集 装置
【主权项】:
一种真空紫外光谱采集装置,包括测量光室,其特征在于:所述光谱采集装置进一步包括:循环单元,所述循环单元与测量光室相连通,并与所述测量光室构成循环气路;气路选择单元,所述气路选择单元设置在所述循环气路上,使所述测量光室选择性地连通循环气路和/或恒压单元;恒压单元,所述恒压单元设置在与所述循环气路相连的气体支路上;压力传感器,所述压力传感器用于监测测量光室的压力;控制单元,所述控制单元根据所述测量光室的压力变化调节所述气路选择单元。
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